掃描電鏡廠家講述掃描電鏡測樣，須注意什麽？

        掃描電鏡廠家講述掃描電鏡SEM如何測樣？須注意什麽？隨著科技和工業的快速發展，普通顯微鏡已經不能滿足人們更高的要求，科研人員更進一步需要觀測、分析和正確的解釋在一個微米或亞微米範圍內樣品所發生的現象，掃描電子顯微鏡（SEM）則是滿足這一更高要求的強有力的分析儀器。人們可以用掃描電鏡來觀察和黄色网站草莓视频非均相有機材料、無機材料及在上述微米、亞微米局部範圍內的微觀形貌特征。那麽它是如何試樣製備的呢？請看小編的介紹：

SS-150掃描電鏡

        1.對試樣的要求：試樣可以是塊狀或粉末顆粒，在真空中保持穩定，含有水分的試樣應先烘幹除去水分，或使用臨界點幹燥設備進行處理。表麵受到汙染的試樣，要在不破壞試樣表麵結構的前提下進行適當清洗，然後烘幹。新斷開的斷口或斷麵，一般不需要進行處理，以免破壞斷口或表麵的結構狀態。有些試樣的表麵、斷口需要進行適當的侵蝕，才能暴露某些結構細節，則在侵蝕後應將表麵或斷口清洗幹淨，然後烘幹。對磁性試樣要預先去磁，以免觀察時電子束受到磁場的影響。

        2.掃描電鏡SEM的塊狀試樣製備是比較簡便的。對於塊狀導電材料，除了大小要適合儀器樣品座尺寸外，基本上不需進行什麽製備，用導電膠把試樣粘結在樣品座上，即可放在SEM中觀察。對於塊狀的非導電或導電性較差的材料，要先進行鍍膜處理，在材料表麵形成一層導電膜。以避免電荷積累，影響圖像質量。並可防止試樣的熱損傷。

        3.粉末試樣的製備：先將導電膠或雙麵膠紙粘結在樣品座上，再均勻地把粉末樣撒在上麵，用洗耳球吹去未粘住的粉末，再鍍上一層導電膜，即可上電鏡觀察。

        4.掃描電鏡SEM鍍膜:鍍膜的方法有兩種，一是真空鍍膜，另一種是離子濺射鍍膜。離子濺射鍍膜的原理：在低氣壓係統中，氣體分子在相隔一定距離的陽極和陰極之間的強電場作用下電離成正離子和電子，正離子飛向陰極，電子飛向陽極，二電極間形成輝光放電，在輝光放電過程中，具有一定動量的正離子撞擊陰極，使陰極表麵的原子被逐出，稱濺射，如果陰極表麵為用來鍍膜的材料（靶材），需要鍍膜的樣品放在作為陽極的樣品台上，則被正離子轟擊而濺射出來的靶材原子沉積在試樣上，形成一定厚度的鍍膜層。

        離子濺射時常用的氣體為惰性氣體氬，要求不高時，也可以用空氣，氣壓約為5X10*-2Torr。離子濺射鍍膜與真空鍍膜相比，其主要優點是：1裝置結構簡單，使用方便，濺射一次隻需幾分鍾，而真空鍍膜則要半個小時以上。2消耗貴金屬少，每次僅約幾毫克。3對同一種鍍膜材料，離子濺射鍍膜質量好，能形成顆粒更細、更致密、更均勻、附著力更強的膜。因此，掃描電鏡SEM如果需要很好的試樣製備，掃描電鏡SEM廠家提醒需要注意以上的要點，這樣測試出來的數據會更加的準確。